Vill du förbättra prestandan hos dina vattenbaserade beläggnings- och målningssystem? Se inte längre än Hemings, en ledande tillverkare och leverantör av silikonförtjockningsmedel. Med en rad skräddarsydda produkter utformade för att förbättra reologiska egenskaper och förhindra sedimentering, är Hemings det bästa valet för företag som vill ta sina beläggningar till nästa nivå.
Som ett välkänt företag inom den funktionella lerindustrin i Kina har Hemings över 15 års erfarenhet av forskning och produktion. Med 35 nationella uppfinningspatent och strikt efterlevnad av ISO9001- och ISO14001-standarderna har Hemings förbundit sig att leverera högkvalitativa produkter som möter marknadens behov. Hemings är också den första leverantören av magnesiumlitiumsilikat i Kina som erhåller fullständig registrering av REACH, vilket visar deras engagemang för regelefterlevnad och miljöansvar.
En av Hemings flaggskeppsprodukter är deras skräddarsydda syntetiska skiktade silikat Hatorite WE, som har samma kemiska kristallstruktur som naturlig bentonit. Denna unika produkt är designad för att fungera som ett silikonförtjockningsmedel, vilket förbättrar de reologiska egenskaperna hos vattenhaltiga system och förhindrar sedimentering. Med Hemings silikonförtjockningsmedel kan du uppnå utmärkta reologiska egenskaper i en mängd olika beläggnings- och målningssystem, vilket säkerställer en jämn och enhetlig finish varje gång.
Förutom Hatorite WE erbjuder Hemings även skräddarsydd litiummagnesiumnatriumsilikat Hatorite S482, som används som skyddsgel i flerfärgsfärg. Denna mångsidiga produkt är idealisk för företag som vill förbättra hållbarheten och livslängden på sina beläggningar, vilket ger överlägset skydd mot miljöfaktorer och slitage.
Med Hemings silikonförtjockningsmedel kan du lita på att dina beläggningar inte bara kommer att se snygga ut utan också stå emot tidens tand. Investera i kvalitetsprodukter från en välrenommerad tillverkare och leverantör som Hemings, och ta dina beläggningar till nya höjder av prestanda och hållbarhet.
